SiN薄膜窗口

氮化硅（Si3N4）是一种无机非金属材料，具有高强度、高硬度、高耐热性、高耐腐性和低热膨胀系数等特点。氮化硅可以通过化学气相沉积（CVD）或物理气相沉积（PVD）等方法在衬底上形成均匀而致密的薄膜。这种薄膜可以作为透射电镜（TEM）的样品支撑平台，即所谓的氮化硅薄膜窗口。氮化硅薄膜窗口通常由一个标准直径为3mm的衬底框架和一个中间有开孔的氮化硅层组成。开孔的大小和形状可以根据实验需求定制，一般为正方形或圆形，尺寸从几百纳米到几毫米不等。氮化硅层的厚度也可以根据实验需求调节，一般从10nm到500nm之间。这样，科研人员可以将样品放置在开孔处，利用电子束穿透开孔并与样品相互作用，从而获取样品的图像和信息。