半导体材料
提供全方位MEMS解决方案
提供各类小批量光刻胶，包括电子束光刻胶、紫外光刻胶、lift-off光刻胶、负胶、光固化胶、聚酰亚胺光刻胶、BCB胶和SU-8胶等。
类型 | 光刻胶型号 | 适用光谱 | 厚度范围/um | 分辨率 | 适用工艺 |
紫外光刻胶-薄胶 | S1800系列 | g-Line,broad line | 0.5-3.5 | 0.5um | 正性光刻胶，稳定性好;适用于分辨率要求较高的光刻工艺 |
AZ5214 | g/h/i-Line | 1-2um | 0.5um | 反转胶 | |
SPR955 | i-Line | 0.5-3.5 | 0.35um | 正性i线光刻胶，适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀 | |
AZ 1500 | g/h/i-Line | 0.5-5 | 1um | 正性光刻胶，广泛应用于半导体制造 | |
宽带厚胶 | SU-8 10系列 | g/h/i-Line | 0.1-200 | 0.5um | 负性环氧类化学放大光刻胶，具有高深宽比，光刻后可以达到非常好的陡直度. |
SPR220 | g/h/i-Line | 1—30 | 1um | 正性光刻胶，用于MEMS和Bump工艺 | |
AZ P4620 | g/h/i-Line | 6—20 | 1um | 正性光刻胶 | |
电子束光刻胶 | HSQXR-1541-006 | EB | 85nm~180nm | 6nm | 极佳分辨率负胶，抗刻蚀 |
Z520 | 0.05-1 | 10-50nm | 高分辨率电子束正胶,抗刻蚀 | ||
PMMA | 电子束正胶 | ||||
EBL 6000系列 | 0.1-0.5 | 50nm | 负性电子束光刻胶 | ||
