Mems代工
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镀膜是指在真空环境下，将某种介质或金属以气相的形式沉积到材料表面，形成一层致密的薄膜，MEMS中薄膜主要分为金属膜、介质膜，沉积方式包括物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、蒸发和溅射。
硅片、GaN、GaAs、玻璃、蓝宝石、柔性材料等。
| PECVD（等离子体增强化学气相沉积） | SiO₂、SiNx、a-Si |
| ALD（原子层沉积） | Al2O3、HfO2、AlN、ZrO2、SiO2、TiN、TiO2等 |
| LPCVD（低压化学气相沉积） | SiNx、Poly-Si |
| ICPCVD（感应耦合化学气相沉积） |
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PVD（磁控溅射） | Ti、Al、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pt、SiO2、SiC |
E-beam（电子束蒸发） | Ti、Al、Ni、Au、Cu、Cr、Sn、Pt、AuGe、SiO2、MgF2、ITO、TiO2、Ta2O5、ZrO2、Al2O3 |
热蒸发 | Sn、AuSn、Ag、Au、In、Al、Cr、Cu、Ti |
